近年來，人們對更強大芯片的興趣呈指數(shù)級增長。眾所周知，所謂的晶圓用于芯片生產(chǎn)。生產(chǎn)高純度硅板需要采用超清潔制造工藝的高質(zhì)量標(biāo)準。
晶圓表面需要非常清潔以提高芯片的質(zhì)量。在這一點上，化學(xué)溶液被用作表面清潔的標(biāo)準溶液。然而，這些清潔方法已被證明是極其不環(huán)保和低效的。相反，在生產(chǎn)過程中使用臭氧已被證明是標(biāo)準方法的最佳替代方案。除了減少化學(xué)品的消耗和相關(guān)成本外，工藝性能也得到了提高。
臭氧在半導(dǎo)體和光伏行業(yè)中的應(yīng)用
Anseros臭氧系統(tǒng)以低成本高效運行，減少了化學(xué)品的使用。
臭氧應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè)中，用于：
濕式清洗
TEOS
化學(xué)氣相沉積CVD
干式清潔
疏水性
ANSEROS 產(chǎn)品的優(yōu)勢和半導(dǎo)體解決方案
總體成本
符合DIN 19627的臭氧產(chǎn)生系統(tǒng)
石英玻璃模塊生產(chǎn)無金屬臭氧
平板放電產(chǎn)生無氣泡臭氧
無腐蝕臭氧發(fā)生器和免維護臭氧測量裝置
無故障晝夜使用，產(chǎn)品壽命長
采用創(chuàng)新UVL技術(shù)的高精度、高節(jié)能NDUV測量技術(shù)
使用不銹鋼材料組件
使用PFA材料組件
使用帶有觸摸面板和不同語言選擇的西門子PLC控制
帶數(shù)字接口和數(shù)字顯示器的數(shù)字臭氧分析儀和發(fā)生器
快速運行的臭氧監(jiān)測儀，可連續(xù)不間斷的通過報警模塊進行安全的臭氧監(jiān)測
通過CE認證
RoHs和REACH認證
為什么選擇ANSEROS臭氧產(chǎn)品和解決方案?
原創(chuàng)：40年臭氧技術(shù)經(jīng)驗
來自單一來源的臭氧系統(tǒng)（設(shè)備的內(nèi)部和外部通信兼容）
高濃度臭氧在DI和RO水中的應(yīng)用，以及在酸性和濕式化學(xué)過程中的應(yīng)用
臭氧系統(tǒng)減少了化學(xué)品的使用
ANSEROS工程團隊的專業(yè)咨詢和規(guī)劃
國際臭氧協(xié)會（IOA）、臭氧質(zhì)量委員會、FIGAWA和DVGW的成員
AiF Industrieforschung認證
全球40多個國家的1000多個客戶，出口占比70%
全球分銷網(wǎng)絡(luò)和全球服務(wù)
德國制造和測試
ANSEROS Engineering：用于晶圓加工的DI系統(tǒng)
在生產(chǎn)過程中開始氧化、消毒和消毒過程
通過使用臭氧，特別是在清潔和濕法清潔過程中出現(xiàn)的物質(zhì)被完全溶解。有機污染物和金屬污染物在水相中臭氧含量高的情況下被氧化。因此避免了晶圓上的任何殘留物。此外，臭氧技術(shù)已經(jīng)被用于固態(tài)無機物質(zhì)。例如，臭氧用于去除光刻膠和用于硅的氧化。另一方面，在去離子水的處理中進行臭氧消毒，以對抗微生物培養(yǎng)物的出現(xiàn)。
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