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臭氧水處理系統(tǒng)PAP-SC-2000PAP-SC-2000
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特別是在半導(dǎo)體加工中，需要完全清潔的臭氧系統(tǒng)。在處理過程中從臭氧系統(tǒng)發(fā)射到半導(dǎo)體表面的任何金屬和顆粒（Wafer/IMIC/RCA/SOM等）都會影響芯片的質(zhì)量。包括其組件——例如臭氧發(fā)生器COM-AD或臭氧監(jiān)測器WM——在內(nèi)，Anseros的PAP-SC系統(tǒng)完全不含與臭氧接觸的金屬。無論是否有酸，它們都可以進(jìn)行清潔的濕法和干法加工。為了確保安全，PAP-SC系統(tǒng)包括一個(gè)CAT-HO臭氧破壞器。
去離子水流量：100 - 2000 l/h
O3：1 - 100 ppmw
與臭氧接觸的材料：PFA、石英
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